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國產17nm工藝內存芯片良率已達40% 預計Q2季度開始供貨

2021-02-22 10:59:36 來源:快科技

經過幾年的追趕,國產DRAM內存芯片由合肥長鑫在2019年量產,首發的是19nm工藝,今年合肥長鑫就要推出下一代的17nm工藝內存芯片了,不過首發產品不是傳聞中的DDR5,而是DDR4。

來自大摩的分析稱,合肥長鑫的17nm工藝DRAM芯片良率已經達到了40%,預計Q2季度就會給客戶供應產品,其成本相比臺系廠商的20nm、25nm工藝內存更有優勢。

至于生產方面,大摩稱合肥長鑫的產能今年會增加到8萬片晶圓/月,并在北京新建工廠,量產17nm工藝內存芯片。

此前的報道中,長鑫還會研發7nm及以下工藝的DDR5、LPDDR5等內存,再下一代的10G5工藝中,除了DDR5、LPDDR5之外還有GDDR6顯存。

此外,長鑫在2020年、2021年分別實現了4.5萬片晶圓/月、6萬片晶圓/月的目標,2022年的產能目標是12萬片晶圓/月,未來的產能目標是30萬片晶圓/月。(作者:憲瑞)

關鍵詞: 國產17nm工藝 內存芯片 良率已達 預計Q2季度 開始供貨

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